蒸发沉积镀膜技术
在蒸发沉积镀膜技术中，真空室中源材料被电子束加热或蒸发，蒸气在光学表面凝结。在蒸发过程中，通过精确控制加热、真空压力、基片定位和旋转，可以获得比厚度均匀的光学涂层。蒸发这种技术性质比较温和，就会导致涂层变得松散或多孔。这种疏松涂层具有吸水性，改变了薄膜的有效折射率，导致性能下降。离子束辅助沉积可以增强蒸发涂层，其中离子束将对准基片表面。这增加了源材料与光学表面的附着力，产生更大的应力，并使涂层更致密、更耐用。
离子束溅射（IBS）镀膜技术
当离子束溅射时，高能电场会加速离子束的产生，这个加速度给离子很大的动能。当与源材料碰撞时，离子束溅射出目标的原子。这些溅射靶离子（由于电离区的影响原子转变为离子）也具有动能，在与光学表面接触时会产生致密的薄膜。
等离子体溅射镀膜技术
等离子体溅射是一系列技术的总称，如先进的磁控溅射和等离子体溅射，不管该技术如何，包括等离子体的产生，等离子体中的离子被加速进入源材料，与松散的能量源离子碰撞，然后溅射到目标光学元件上。虽然不同类型的等离子溅射具有其独特的特性和优点和缺点，但是这种涂覆技术比本文所涉及的其它涂覆技术要小得多。
原子层沉积镀膜技术
与蒸发沉积不同，原子层沉积的源材料不需要从固体中蒸发，而是直接以气体的形式存在，尽管该技术使用气体，但是在真空室中仍然需要高温。在ALD过程中，气体前驱体通过非重叠脉冲传输，脉冲是自限幅的，该工艺具有独特的化学设计，每个脉冲仅粘附一层，并且对于光学部件的表面几何形状没有特殊要求，因此，这一工艺可以使我们控制涂层厚度和设计，但它会降低沉积速率。
镀膜工艺
不同的涂层沉积技术具有各自的优点和缺点，瑞诚光电可以采用不同的沉积技术为客服服务。
